Le attività di ricerca combinano diverse tecniche laser per la produzione e caratterizzazione di materiali nanostrutturati, sistemi organici, inorganici e ibridi per applicazioni nel fotovoltaico di terza generazione, optoelettronica e fotonica nonché dello studio di processi laser indotti come quello di ablazione e deposizione ottenuta con impulsi ultracorti (100 fs).

Spettroscopia risolta in tempo

• pump and probe spectrosopy di specie transienti (risoluzione 100 fs, range spettrale 290-2500nm)
• fluorescenza risolta in tempo, Time Correlated Single Photon Counting-TCSPC (risoluzione temporale 300 ps)
• spettroscopia in emissione plasmi indotti da laser (risoluzione temporale 2ns, range spettrale 200-900 nm)

Produzione di materiali nanostrutturati tramite impulsi laser al fs

• ablazione e deposizione laser in vuoto (10-6 Pa) e ambiente controllato; ablazione laser in liquido; trattamenti superficiali.

Imaging di processo

• Snap shot con risoluzione di 2ns tramite l'ausilio di una Intensified Charged Coupled Device - ICCD

Sorgente laser

• Ti:S Spectra Physics - Spitfire (1000Hz, 4 mJ/pulse, 800 nm)
• Amplificatore Parametrico TOPAS-C Light Conversion (290-2500 nm)